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產(chǎn)品展示

  • DISRAD迪德 X700經(jīng)濟(jì)型分散機(jī) 高速勻漿儀

    DISRAD迪德 X700經(jīng)濟(jì)型分散機(jī) 高速勻漿儀,一款經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式分散機(jī),500W碳刷電機(jī),轉(zhuǎn)速5000~28000rpm,處理從0.5ml至2500ml的樣液,超高的性價(jià)比和靈活的配置,使其成為化學(xué)、生物、制藥等分析實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。分散刀頭有多尺寸、類型可選,能迅速實(shí)現(xiàn)樣品的分散、均質(zhì)、乳化、懸濁、攪拌等操作。

    更新時(shí)間:2026-03-05
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  • DISRAD迪德 X2000臺(tái)式分散機(jī) 高剪切乳化機(jī)

    DISRAD迪德 X2000臺(tái)式分散機(jī) 高剪切乳化機(jī),體積小巧,高性能500W進(jìn)口電機(jī),轉(zhuǎn)速3500~30000rpm,可快速處理0.5ml至2500ml的樣液。微處理器電子調(diào)速,精確恒定的轉(zhuǎn)速,樣品處理均一性好,確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的重復(fù)性和準(zhǔn)確性,并帶有軟啟動(dòng)技術(shù),PTC監(jiān)測(cè)多重保護(hù)功能,可防止過載、過熱等異常情況的發(fā)生,為實(shí)驗(yàn)人員提供安全可靠的實(shí)驗(yàn)支持。 迪德 X2000臺(tái)式分散機(jī)實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備。

    更新時(shí)間:2026-03-05
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  • 迪德 X2000進(jìn)口分散機(jī)勻漿儀乳化機(jī)

    迪德 X2000進(jìn)口分散機(jī)勻漿儀乳化機(jī),體積小巧,高性能500W進(jìn)口電機(jī),轉(zhuǎn)速3500~30000rpm,可快速處理0.5ml至2500ml的樣液。微處理器電子調(diào)速,精確恒定的轉(zhuǎn)速,樣品處理均一性好,確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的重復(fù)性和準(zhǔn)確性,并帶有軟啟動(dòng)技術(shù),PTC監(jiān)測(cè)多重保護(hù)功能,可防止過載、過熱等異常情況的發(fā)生,為實(shí)驗(yàn)人員提供安全可靠的實(shí)驗(yàn)支持。 迪德 X2000臺(tái)式分散機(jī)實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備。

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  • 迪德 X2000分散機(jī)勻漿儀高剪切均質(zhì)器

    迪德 X2000分散機(jī)勻漿儀高剪切均質(zhì)器,體積小巧,高性能500W進(jìn)口電機(jī),轉(zhuǎn)速3500~30000rpm,可快速處理0.5ml至2500ml的樣液。微處理器電子調(diào)速,精確恒定的轉(zhuǎn)速,樣品處理均一性好,確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的重復(fù)性和準(zhǔn)確性,并帶有軟啟動(dòng)技術(shù),PTC監(jiān)測(cè)多重保護(hù)功能,可防止過載、過熱等異常情況的發(fā)生,為實(shí)驗(yàn)人員提供安全可靠的實(shí)驗(yàn)支持。 迪德 X2000臺(tái)式分散機(jī)實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備。

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  • 迪德 X700均質(zhì)器高速勻漿儀乳化機(jī)

    迪德 X700均質(zhì)器高速勻漿儀乳化機(jī),一款經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式分散機(jī),500W碳刷電機(jī),轉(zhuǎn)速5000~28000rpm,處理從0.5ml至2500ml的樣液,超高的性價(jià)比和靈活的配置,使其成為化學(xué)、生物、制藥等分析實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。分散刀頭有多尺寸、類型可選,能迅速實(shí)現(xiàn)樣品的分散、均質(zhì)、乳化、懸濁、攪拌等操作。

    更新時(shí)間:2026-03-05
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  • 迪德 X700臺(tái)式高剪切分散機(jī)勻漿儀

    迪德 X700臺(tái)式高剪切分散機(jī)勻漿儀,一款經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式分散機(jī),500W碳刷電機(jī),轉(zhuǎn)速5000~28000rpm,處理從0.5ml至2500ml的樣液,超高的性價(jià)比和靈活的配置,使其成為化學(xué)、生物、制藥等分析實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。分散刀頭有多尺寸、類型可選,能迅速實(shí)現(xiàn)樣品的分散、均質(zhì)、乳化、懸濁、攪拌等操作。

    更新時(shí)間:2026-03-05
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